以光为刀
光刻以光为刀，在硅片上转印电路图形——波长越短，能刻出的线条越细。
01 / 为什么是极紫外
更短的波长，更先进的芯片
芯片制造的进阶，始终沿着更短波长的光前行——极紫外光源，是先进光刻能力的源头。
从深紫外到极紫外
193 纳米深紫外光支撑了成熟制程；走向更先进的芯片，需要 13.5 纳米极紫外光。
光源是核心
持续、稳定地产生足够功率的极紫外光，是先进光刻装备中最具挑战性的核心子系统之一。
供给受限
先进极紫外光刻装备对华出口受到严格管制，国内先进制程面临核心装备供给约束——光源的自主研制，成为必由之路。
尺度
13.5 纳米波长，约为头发丝直径的五千分之一。
真空
极紫外光会被空气强烈吸收，光路须全程在真空中运行。
反射
极紫外光无法穿透透镜，只能依靠多层膜反射镜传输。
02 / 工作原理
从受控等离子体，到先进光源
围绕靶面控制、能量注入与辐射收集，探索面向极紫外光源的系统化技术路线。
约束靶面成型
结合射流注入与磁约束，研究辐射区域的构型、密度及温度分布控制。
双激光协同注入
采用连续与脉冲激光协同方案，探索密度调控与局部能量沉积的解耦控制。
目标波段辐射
围绕 13.5 纳米目标波段，开展辐射特性测量与运行条件优化。
光学收集与引出
研究收集光学、收集镜保护与工质回收，推进后端光学接口的系统集成。
以上为研发路线概述，具体性能与工程实现以实验验证为准。
了解技术与工程 →03 / 团队
系统工程能力
托卡光源围绕激光、光学与等离子体物理开展跨学科研发，连接基础研究与工程实现。
团队能力
01
激光工程
高功率激光系统的总体设计、研制与工程化交付。 连续与脉冲激光协同工作的能量注入系统，以及光束质量与焦斑控制。
02
精密光学系统工程
极紫外高转化率集光系统工程 · 极紫外反射式照明系统设计 · 光刻光源质量测量与评价。 依托国内极紫外多层膜与超平滑反射镜设计–加工–检测产业通路， 覆盖照明 / 投影光学设计装调到光刻工艺应用的全链条。
03
聚变工程与等离子体物理
超导托卡马克总体设计与建造一线背景，磁体 / 偏滤器 / 真空系统全栈工程交付能力。 托卡马克高 Z 杂质辐射诊断与极紫外 / 真空紫外光谱分析， 偏滤器辐射调控与高 Z 元素芯部输运建模。
核心技术团队按光刻行业惯例以职能门类披露，由具备上述门类能力的发起团队牵头推进。
合作伙伴
长春光机所 中国科学院
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，国内光学精密仪器领域科研机构。
星环聚能
聚焦球形托卡马克聚变技术研发的工程团队。