约束靶面成型
结合射流注入与磁约束,研究辐射区域的构型、密度及温度分布控制。
TOKLIGHT / ADVANCED LIGHT SOURCE
托卡光源是终极能源技术驱动的先进光源平台,当前聚焦 EUV 光源及照明子系统。 公司以托卡马克等离子体技术为基础,开展光源系统、关键部件及装备接口的工程工作。
01 / HOW IT WORKS
围绕靶面控制、能量注入与辐射收集,探索面向 EUV 光源的系统化技术路线。
结合射流注入与磁约束,研究辐射区域的构型、密度及温度分布控制。
采用连续与脉冲激光协同方案,探索密度调控与局部能量沉积的解耦控制。
围绕 13.5 nm 目标波段,开展辐射特性测量与运行条件优化。
研究收集光学、收集镜保护与工质回收,推进后端光学接口的系统集成。
以上为研发路线概述,具体性能与工程实现以实验验证为准。
了解技术与工程 →02 / PARTNERS
与科研机构及产业伙伴协同,推进光源系统的研发与工程验证。
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,国内光学精密仪器领域科研机构。
聚焦球形托卡马克聚变技术研发的工程团队。
03 / PEOPLE & CONTACT
托卡光源围绕激光、光学与等离子体物理开展跨学科研发, 连接基础研究与工程实现。欢迎相关专业人才和产业伙伴交流。
CAREERS
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