约束靶面成型
结合射流注入与磁约束，研究辐射区域的构型、密度及温度分布控制。
01 / HOW IT WORKS
从受控等离子体，到先进光源
围绕靶面控制、能量注入与辐射收集，探索面向 EUV 光源的系统化技术路线。
双激光协同注入
采用连续与脉冲激光协同方案，探索密度调控与局部能量沉积的解耦控制。
目标波段辐射
围绕 13.5 nm 目标波段，开展辐射特性测量与运行条件优化。
光学收集与引出
研究收集光学、收集镜保护与工质回收，推进后端光学接口的系统集成。
以上为研发路线概述，具体性能与工程实现以实验验证为准。
了解技术与工程 →02 / PEOPLE & CONTACT
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